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JS-1600小型離子濺射儀
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LX-S10-BLP1KW小功率冷水機
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about us技術文章
Technical articles2025
6-17冷濺射小型磁控濺射儀具有良好的濺射過程控制能力
冷濺射小型磁控濺射儀是一種用于薄膜材料沉積的設備，廣泛應用于材料科學、半導體工業、光電器件制造等領域。具有高精度、高沉積速率、低溫沉積等優(yōu)點，并能夠在不加熱基材...2025
5-21桌面型小型離子濺射儀的設計特點詳細介紹
桌面型小型離子濺射儀是用于薄膜沉積、表面處理以及材料改性的一種先進工具，廣泛應用于半導體制造、光學涂層、表面分析等領域。離子濺射技術通過利用離子束轟擊靶材，使靶...2024
12-16貴金屬靶材蒸發(fā)料加工蒸發(fā)薄膜的沉積與控制
貴金屬靶材蒸發(fā)料加工技術作為一種重要的薄膜制備技術，在多個行業中得到了廣泛應用。隨著技術的不斷發(fā)展，蒸發(fā)加工的精度和效率不斷提高，新的蒸發(fā)方法和設備層出不窮，貴...2024
11-18光纖鍍膜小型離子濺射儀適合實驗室和小規(guī)模生產環(huán)境
光纖鍍膜小型離子濺射儀是一種用于精確鍍膜技術的設備，廣泛應用于光學、電子、材料科學等領域。其主要功能是通過離子濺射技術將薄膜材料沉積到光纖表面，以改善其光學性能...2024
10-21低溫濺射小型磁控濺射儀使用時的注意要點
低溫濺射小型磁控濺射儀是一種在材料科學和表面工程領域廣泛應用的設備，主要用于制備薄膜、涂層以及納米結構。工作原理基于磁控濺射技術。具體來說，當真空腔室內注入一定...2024
9-14手套箱適用離子濺射儀與傳統離子濺射設備相比有哪些特點？
手套箱適用離子濺射儀是一種結合了手套箱技術的離子濺射設備。其核心原理是利用高能粒子轟擊靶材，使靶材表面的原子或分子獲得足夠的能量并脫離靶材，隨后在基片上沉積形成...2024
8-20冷濺射小型磁控濺射儀可在消費品上添加耐磨、裝飾性的涂層
冷濺射小型磁控濺射儀是一種先進的薄膜沉積設備，采用磁控濺射技術在各種基材上制備高質量、均勻的薄膜。這種技術因其低溫、高效率和出色的膜層控制能力而被廣泛應用于材料...2024
7-17薄膜制備小型磁控濺射儀在半導體器件的制造中的應用
薄膜制備小型磁控濺射儀是一種用于在各種基材上沉積薄膜材料的設備。它基于磁控濺射技術，該技術利用磁場控制等離子體中的電子運動，從而增加等離子體的密度和濺射效率。磁...推薦產品
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